有关高纯磷酸的应用介绍科普！

高纯磷酸是一种高附加值的精细磷化工产品，是未来磷化工产业发展的一个不可或缺的产品方向。所以今天中天利小编就来给大家分享有关高纯磷酸的应用介绍科普！

（1）企业规模小；

（2）生产的产品只能达到高纯磷酸低端产品要求，只能应用于电子工业的液晶显示器生产上作清洗剂；

（3）半导体芯片（IC）、发光二极管（LED）、薄膜场效应晶体管-液晶显示器（TFT-LCD）行业使用的高纯磷酸长期依赖进口；

（4）总体技术水平落后于发达国家，而且原材料的消耗以及生产成本普遍高于国外。

高纯磷酸在大屏幕液晶显示器(LCD)及半导体芯片(IC)制造等微电子工业的应用，主要用于芯片的湿法清洗和湿法蚀刻、光纤玻璃生产、晶圆硅片表面清洗等方面。由于当磷酸中存在不溶性固体颗粒和金属离子时，会导致电子产品的耐绝缘电压下降，腐蚀、漏电，使电阻不均匀、元件使用寿命降低，对产品的成品率、电性能及可靠性是致命性的影响。因此，电子行业对高纯磷酸中的不溶性固体颗粒和杂质金属阳离子有着极其苛刻的要求，对于达到使用标准的磷酸，其各种金属离子的浓度至少要小于1ppm（百万分之一）。

然而，对于高纯磷酸级别和质量的划分，国内相对比较混乱，国外例如美国、日本、德国的高纯磷酸均己工业化生产，由于其严格的技术保密和专利封锁，其产品质量指标及生产技术并未见报道。国内迄今为止并没有统一的磷酸标准，产品质量和技术性指标还只能由客户单方面认定，例如对于杂质离子（K，Na，Mg，Ca等）的检出限要求，欧洲，台湾与韩国的使用要求在1PPm左右，而大陆厂商大约0.5PPm，这一使用要求与我国国家标准中MOS（金属半导体）级高纯磷酸的标准十分接近，可见各个国家和地区对于高纯磷酸的标准有一定的差异。然而，在可以预见的将来，随着IC的集成度不断提高，对于高纯磷酸中的固体颗粒和金属离子杂质浓度的控制将要求越来越严，同时对于生产车间、产品包装、贮存、运输等各个流程环节的要求也会越来越高。不过，在IC芯片及TFT-LCD的制造过程中，超净高纯化学试剂(含电子级磷酸)的应用特点都是所占成本比例虽小、但对产品质量影响却很大。因而，企业的使用者们，更愿意使用更高纯度的化学试剂（磷酸），所以发展磷酸及其产品的纯化技术，在将来对于提高产品与企业的竞争力，是十分有利的。

高纯磷酸中人们关注金属离子杂质的检测问题，由于杂志的含量极低，所以原有的分析测试技术己不能满足要求，故需要使用高标准痕量元素检测仪器进行分析检测，如石墨炉原子吸收光谱(GFAA)、等离子体电感耦合发射光谱(ICP)、等离子体电感耦合—质谱(ICP-MS)等。ICP可以在同一种溶液中同时测定多达30种金属离子杂质，检出限高达到10-9级，即ppb级。ICP-MS法能测定元素周期表中的72种元素，且能进行多元素的同时测定，检出限可达10-12级。由于ICP-MS的测试费用较高(约为ICP的5-10倍)，所以在实验研究中一般以ICP检测为主，工业应用和产品考核时采用ICP-MS。

高纯磷酸在高精尖产业的应用前景是显而易见的，而作为高附加值的磷化工产品，其未来的发展前景也十分看好。因此，鉴于国内高纯磷酸生产的技术缺陷，加大对磷酸和其它磷化工产品纯化技术的投入很重要！

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